快科技2月15日消息，近日，光刻機(jī)巨頭ASML首次在其荷蘭總部向媒體公開展示了最新一代的High NA EUV光刻機(jī)。

據(jù)悉，一套High NA EUV光刻機(jī)的大小等同于一臺(tái)雙層巴士，重量更高達(dá)150噸，組裝起來比卡車還大，需要被分裝在250個(gè)單獨(dú)的板條箱中進(jìn)行運(yùn)輸。

裝機(jī)時(shí)間預(yù)計(jì)需要250名工程人員、歷時(shí)6個(gè)月才能安裝完成。

根據(jù)爆料顯示，High NA EUV的售價(jià)高達(dá)3.5億歐元一臺(tái)，約合人民幣27億元，它將成為全球三大晶圓制造廠實(shí)現(xiàn)2nm以下先進(jìn)制程大規(guī)模量產(chǎn)的必備武器。

2023年12月，Intel已率先拿下了全球首臺(tái)High NA EUV光刻機(jī)，臺(tái)積電和三星訂購(gòu)High NA EUV預(yù)計(jì)最快2026年到貨。

由于High NA EUV光刻機(jī)價(jià)格是當(dāng)前EUV光刻機(jī)的兩倍，這也意味著設(shè)備成本將大幅增加。

而明年即將量產(chǎn)的2nm依然可以依賴于現(xiàn)有的EUV光刻機(jī)來完成，并且成本并不會(huì)大幅增加，這也是臺(tái)積電、三星不急于導(dǎo)入High NA EUV光刻機(jī)的關(guān)鍵。

去年12月，ASML官方社交媒體賬號(hào)發(fā)布了一張現(xiàn)場(chǎng)照片。圖可以看到，光刻機(jī)的一部分被放在一個(gè)保護(hù)箱中。箱身綁著一圈紅絲帶，正準(zhǔn)備從其位于荷蘭埃因霍溫的總部發(fā)貨。

“耗時(shí)十年的開創(chuàng)性科學(xué)和系統(tǒng)工程值得鞠一躬！我們很高興也很自豪能將我們的第一臺(tái)高數(shù)值孔徑的極紫外光刻機(jī)交付給Intel。”ASML公司說道。

公開資料顯示，NA數(shù)值孔徑是光刻機(jī)光學(xué)系統(tǒng)的重要指標(biāo)，直接決定了光刻的實(shí)際分辨率，以及最高能達(dá)到的工藝節(jié)點(diǎn)。

一般來說，金屬間距縮小到30nm以下之后，也就是對(duì)應(yīng)的工藝節(jié)點(diǎn)超越5nm，低數(shù)值孔徑光刻機(jī)的分辨率就不夠了，只能使用EUV雙重曝光或曝光成形(pattern shaping)技術(shù)來輔助。

這樣不但會(huì)大大增加成本，還會(huì)降低良品率。因此，更高數(shù)值孔徑成為必需。