快科技11月6日消息，近日佳能CEO御手洗富士夫在接受受訪時(shí)表示，該公司基于NIL的新型芯片制造設(shè)備售價(jià)將比ASML的EUV少一位數(shù)。

目前，極紫外光刻機(jī)（EUV）的唯一供應(yīng)商就是ASML，EUV對(duì)于大規(guī)模生產(chǎn)速度快、能耗低的芯片至關(guān)重要，但每臺(tái)機(jī)器的售價(jià)高達(dá)數(shù)億美元，只有少數(shù)公司才有能力購(gòu)買(mǎi)。

為此，從2017年開(kāi)始，佳能就與鎧俠，以及半導(dǎo)體零組件制造商大日本印刷株式會(huì)社（DNP）合作，研發(fā)基于納米壓?。∟IL）的量產(chǎn)技術(shù)，在不使用EUV的情況下將制程技術(shù)推進(jìn)到5nm。

佳能表示，這套生產(chǎn)設(shè)備的工作原理和ASML光刻機(jī)不同，并不利用光學(xué)圖像投影的原理將集成電路的微觀結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到硅晶圓上，而是更類(lèi)似于印刷技術(shù)，直接通過(guò)壓印形成圖案。

鎧俠曾經(jīng)表示，由于NIL技術(shù)的微影制程較為單純，因此相比于EUV可以大幅減少耗能，并降低設(shè)備成本。

御手洗富士夫還表示：“我不認(rèn)為納米壓印技術(shù)會(huì)取代EUV，但我相信這將創(chuàng)造新的機(jī)會(huì)和需求，而且我們已經(jīng)收到了很多客戶的咨詢。”

同時(shí)其還表示，最終的定價(jià)目前還沒(méi)有敲定，但希望這是一個(gè)完全的驚喜。