快科技11月4日消息，俄羅斯已經(jīng)公開表示，自己正在研發(fā)光刻機，最快會在2024年有成果。

按照俄羅斯工業(yè)和貿(mào)易部副部長Vasily Shpak的說法，2024年將開始生產(chǎn)350nm光刻機，2026年啟動用于生產(chǎn)130nm制程芯片的光刻機設(shè)備。

對于這樣的行為，俄羅斯表示，目前全球只有兩家公司生產(chǎn)此類設(shè)備——日本尼康和荷蘭ASML，而他們要改變這個格局。

現(xiàn)在俄羅斯已經(jīng)掌握了使用外國制造設(shè)備的65nm技術(shù)，但無法生產(chǎn)光刻機。由于外國公司被禁止向俄羅斯出口現(xiàn)代光刻設(shè)備，該國正在匆忙開發(fā)自己的生產(chǎn)設(shè)備。

在這之前，圣彼得堡理工大學(xué)的研究人員開發(fā)出了一種“國產(chǎn)光刻復(fù)合體”，可用于蝕刻生產(chǎn)無掩模芯片，這將使“解決俄羅斯在微電子領(lǐng)域的技術(shù)主權(quán)問題”成為可能。

據(jù)介紹，其中一種工具的成本為500萬盧布（當(dāng)前約36.3萬元人民幣），另一種工具的成本未知。

據(jù)開發(fā)人員稱，傳統(tǒng)光刻技術(shù)需要使用專門的掩膜板來獲取圖像。

該裝置由專業(yè)軟件控制，可實現(xiàn)完全自動化，隨后的另外一臺設(shè)備可直接用于形成納米結(jié)構(gòu)，但也可以制作硅膜，例如用于艦載超壓傳感器。

此外，俄羅斯大諾夫哥羅德策略發(fā)展機構(gòu)發(fā)豪語，宣稱俄羅斯科學(xué)院旗下應(yīng)用物理研究所將會跌破所有人眼鏡，在2028年開發(fā)出可以生產(chǎn)7納米芯片的光刻機，還可擊敗ASML同類產(chǎn)品。