10月30日消息，據(jù)彭博社報(bào)道，近日“浸沒式光刻之父”、晶圓代工大廠臺(tái)積電前研發(fā)副總林本堅(jiān)(Burn J. Lin)在接受采訪時(shí)罕見地表示，美國(guó)無(wú)法阻止中國(guó)大陸公司在先進(jìn)制程芯片技術(shù)方面取得進(jìn)步，并表示中國(guó)應(yīng)該能夠利用現(xiàn)有設(shè)備繼續(xù)推進(jìn)到下一代的5nm制程工藝。

報(bào)道稱，華為新推出全新基于國(guó)產(chǎn)先進(jìn)制程工藝的麒麟處理器震驚了美國(guó)，證明了中國(guó)廠商可以使用現(xiàn)有的舊機(jī)器制造更復(fù)雜的芯片。

林本堅(jiān)表示，中國(guó)在芯片技術(shù)方面已經(jīng)獲得突破，打破了美國(guó)旨在遏制其技術(shù)進(jìn)步的限制 。“美國(guó)不可能完全阻止中國(guó)改進(jìn)其芯片技術(shù)。”相信中國(guó)目前已經(jīng)擁有設(shè)備能夠繼續(xù)將制程工藝推進(jìn)到5nm制程。

對(duì)于美國(guó)近期又升級(jí)了半導(dǎo)體出口限制，林本堅(jiān)表示，盡管美國(guó)通過(guò)制裁施加技術(shù)限制，中國(guó)廠商通過(guò)開發(fā)第二代7納米級(jí)制造工藝，展現(xiàn)了顯著的韌性和獨(dú)創(chuàng)性。它還實(shí)現(xiàn)了足夠高的產(chǎn)量，足以讓華為制定供應(yīng) 7000 萬(wàn)部智能手機(jī)的計(jì)劃。

據(jù)稱，中國(guó)最新的先進(jìn)制程工藝使用了荷蘭ASML 的 Twinscan NXT:2000i 系列光刻工具，這是一種深紫外 (DUV) 光刻設(shè)備，可以生產(chǎn)采用 7nm 和 5 nm 級(jí)工藝技術(shù)的芯片。

Twinscan NXT:2000i 的分辨率（≤38nm）足以滿足 7nm 級(jí)單圖案光刻批量生產(chǎn)的需要。但今年早些時(shí)候，荷蘭政府限制了該工具繼續(xù)向中國(guó)的出口 。

另外，當(dāng)涉及到5nm級(jí)工藝技術(shù)時(shí)，需要更精細(xì)的分辨率。

為了生產(chǎn)它，芯片制造商可以使用Twinscan NXT:2000i 來(lái)做雙重、三重甚至四重圖案化，這是一種更為復(fù)雜的光刻技術(shù)，涉及將一個(gè)圖案分成幾個(gè)圖案，然后按順序印刷這些圖案，以在半導(dǎo)體制造中實(shí)現(xiàn)更高的精度和細(xì)節(jié)。多重圖案化的使用是一個(gè)棘手的過(guò)程，會(huì)影響產(chǎn)量以及每個(gè)晶圓上可使用的芯片數(shù)量，因此通常由于經(jīng)濟(jì)原因其使用受到限制。

但受限于其已有的工具，中國(guó)芯片制造廠商別無(wú)選擇，只能使用多重圖案化來(lái)獲得更精細(xì)的分辨率。顯然，它已經(jīng)達(dá)到了華為可以接受的良率。由此可見，美國(guó)政府對(duì)限制策略并沒有多少效果。

林本堅(jiān)指出：“美國(guó)真正應(yīng)該做的是專注于保持其芯片設(shè)計(jì)領(lǐng)先地位，而不是試圖限制中國(guó)的進(jìn)步，這是徒勞的，并且會(huì)損害全球經(jīng)濟(jì)。因?yàn)橹袊?guó)正在采取舉國(guó)戰(zhàn)略來(lái)發(fā)展其芯片產(chǎn)業(yè)。”