近日，網上瘋傳清華大學彎道超車，已經突破EUV光刻機項目，實現了光刻機的巨大化、工廠也已經在雄安新區落地，就是下圖中這個樣子：

難道這真的是國產光刻機工廠？

不，中國電子院對此做出了詳細的解讀：

這是北京高能同步輻射光源項目（HEPS）！

HEPS坐落于北京懷柔雁棲湖畔，是國家“十三五”重大科技基礎設施。

它是我國第一臺高能量同步輻射光源，也是世界上亮度最高的第四代同步輻射光源之一，早在2019年就開始建設，將于2025年底投入使用。

△北京高能同步輻射光源項目實拍圖

HEPS的作用是通過加速器將電子束加速到6GeV，然后注入周長1360米的儲存環，用接近光速的速度保持運轉。

電子束在儲存環的不同位置通過彎轉磁鐵或者各種插入件時，就會沿著偏轉軌道切線的方向釋放出穩定、高能量、高亮度的光，也就是同步輻射光。

簡單的說，HEPS可以看成是一個超精密、超高速、具有強大穿透力的巨型X光機。

它產生的小光束，可以穿透物質、深入內部進行立體掃描，從分子、原子的尺度多維度地觀察微觀世界。

HEPS是進行科學實驗的大科學裝置，并不是網傳的光刻機工廠。

該項目由全國勘察設計大師、國投集團首席科學家婁宇帶隊，中國電子院多個技術科研和設計團隊協同合作。

從項目可研立項到項目落地，中國電子院攻克了多項技術和工藝難關，解決了項目不均勻沉降、微振動控制、超長結構設計、光伏板設計、精密溫度控制、工藝循環冷卻水系統、超復雜工藝系統等七大技術難題，實現了重大技術突破，指標控制達到了國際先進水平。

目前高能同步輻射光源配套工程已全面完工，向產生世界最“亮”的光又更近了一步。

雖然HEPS不是光刻廠，但關于光刻廠的信息之所以能在自媒體平臺迅速刷屏，歸根到底，還是源于大眾對解決“卡脖子”難題的期待。

中國電子院也在，助力“中國芯”之路上持續發力，從建院之初，便開啟了中國“芯”的起步。

近年來，中國電子院深耕細做半導體行業，承擔了國內超過50%的存儲芯片項目，為國家在電子信息領域實現科技自立自強做出了重要貢獻。

中國電子院自主開發了核心算法和數字化技術，已推出“先進電子制造數字孿生工廠解決方案1.0版”，致力于實現生產制造“綠色、低碳、精益、高效”建設目標。

國家存儲器基地：國內唯一本土企業主導的12英寸3D閃存生產線項目

中芯京城：國內規模最大的12英寸集成電路先進工藝生產線項目

廣州粵芯：廣東省第一座成功量產的12英寸集成電路芯片制造廠

福建晉華：第一條由本土企業建設并運營的12英寸DRAM芯片生產線

合肥晶合：國內第一座EPC模式新建的12英寸廠

英諾賽科：國際領先8英寸硅基氮化鎵芯片生產線

廈門士蘭微：國內第一條12英寸特色工藝IDM芯片制造

西安奕斯偉：國內規模最大12英寸硅片生產線

廈門通富微電：世界級綠色標桿集成電路封裝測試基地

德州儀器（成都）：全球模擬芯片龍頭企業先進封裝項目