美國(guó)在出口管制上又有新的舉措。

據(jù)報(bào)道，1月28日，美國(guó)、荷蘭和日本就限制向中國(guó)出口先進(jìn)芯片制造設(shè)備達(dá)成協(xié)議，其中將會(huì)涉及ASML、尼康、東京電子等企業(yè)的設(shè)備產(chǎn)品。

虎嗅向半導(dǎo)體業(yè)內(nèi)人士、從事出口管制方面的律師求證，證實(shí)了該消息。迄今為止，美國(guó)、日本和荷蘭政府尚未對(duì)具體細(xì)節(jié)進(jìn)行公布。

1月30日，在光刻機(jī)巨頭阿斯麥（NASDAQ:ASML）向虎嗅提供的一份官方聲明中確認(rèn)，幾國(guó)政府間就達(dá)成一項(xiàng)側(cè)重于先進(jìn)制程芯片制造技術(shù)的協(xié)議有了最新進(jìn)展，其中將包括但不限于先進(jìn)制程的光刻系統(tǒng)。

ASML的聲明中提及，在這項(xiàng)協(xié)議生效之前，必須詳細(xì)說明并落實(shí)到立法中，這需要時(shí)間。其在中國(guó)的業(yè)務(wù)以成熟制程為主。

目前，尚無法就細(xì)節(jié)以及新的出口管制規(guī)則對(duì)中期和長(zhǎng)期財(cái)務(wù)、組織和全球行業(yè)的影響發(fā)表任何聲明?；谡賳T的聲明、立法進(jìn)程時(shí)間表、不同條款的生效日期，加之目前的市場(chǎng)形勢(shì)，ASML預(yù)計(jì)這些措施不會(huì)對(duì)其發(fā)布的2023年預(yù)期產(chǎn)生實(shí)質(zhì)性影響。

在這項(xiàng)新的協(xié)議中，最大的變化莫過于，對(duì)華的出口管制，從原來的EUV光刻機(jī)擴(kuò)展到浸潤(rùn)式光刻機(jī)（DUV）。

這項(xiàng)新的協(xié)議將會(huì)對(duì)中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)生什么影響？又該如何應(yīng)對(duì)？

可能發(fā)生的新變化

ASML的光刻機(jī)有四大類，一種是EUV，也就是極紫外光刻機(jī)，用于生產(chǎn)7nm制程及以下的芯片；第二類是用于生產(chǎn)制程在7nm及以下制程的最新型浸潤(rùn)式光刻機(jī)；第三種是用于生產(chǎn)制程在40nm／28nm／14nm／7nm的浸潤(rùn)式光刻機(jī)；第四種就是生產(chǎn)55nm及以上制程的干式光刻機(jī)。

業(yè)界證實(shí)，目前對(duì)于第一類和第二類的光刻機(jī)大概率會(huì)被禁運(yùn)，成熟制程的芯片生產(chǎn)不會(huì)受到影響。

目前，除了ASML，日本尼康也能夠量產(chǎn)用于生產(chǎn)7nm及以下制程的浸潤(rùn)式光刻機(jī)。

一位半導(dǎo)體研發(fā)專家表示，如果浸潤(rùn)式光刻機(jī)禁運(yùn)，那么對(duì)于已有機(jī)臺(tái)也會(huì)受到影響，主要的影響集中在光源以及關(guān)鍵零件的更換上，最新型號(hào)的浸潤(rùn)式光刻機(jī)能夠提供更大制程的寬度以及提升良率。

美國(guó)的供應(yīng)鏈話語權(quán)

多位業(yè)內(nèi)人士都表達(dá)了一個(gè)觀點(diǎn)，如今已很難用正常的商業(yè)手段去看待美國(guó)的出口管制，而已經(jīng)是大國(guó)博弈的視角。這一點(diǎn)，從這一次美國(guó)是直接與日本和荷蘭政府談判，而不是與企業(yè)談判就可見一斑。

一直以來，美國(guó)通過技術(shù)、市場(chǎng)和金融控制的方式獲得在供應(yīng)鏈中的話語權(quán)，這也使得諸多半導(dǎo)體企業(yè)不得不順應(yīng)美國(guó)的要求。

如果細(xì)究ASML公司的股權(quán)結(jié)構(gòu)可以發(fā)現(xiàn)，有50%的股權(quán)資本控制來自美國(guó)。而拆解ASML光刻機(jī)后也會(huì)發(fā)現(xiàn)，其中的大部分關(guān)鍵零部件來自美國(guó)的供應(yīng)商。

根據(jù)李巍、李玙譯一篇刊登于《外交評(píng)論》的文章，《解析美國(guó)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)霸權(quán)：產(chǎn)業(yè)權(quán)力的政治經(jīng)濟(jì)學(xué)分析》中提及在阿斯邁的EUV光刻機(jī)中，有55%使用了美國(guó)的零部件。

而在技術(shù)上，美國(guó)也掌握了半導(dǎo)體技術(shù)鏈的主要環(huán)節(jié)。其在芯片制造設(shè)備、電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化（EDA）以及知識(shí)產(chǎn)權(quán)核（IP）等方面占據(jù)了絕對(duì)的優(yōu)勢(shì)地位。這使得整個(gè)半導(dǎo)體供應(yīng)鏈無法繞過美國(guó)順利運(yùn)轉(zhuǎn)。

數(shù)據(jù)來源：彭博終端／《解析美國(guó)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)霸權(quán)：產(chǎn)業(yè)權(quán)力的政治經(jīng)濟(jì)學(xué)分析》

在金融控制上，“目前，共有88家注冊(cè)地點(diǎn)位于非美國(guó)本土的半導(dǎo)體企業(yè)通過間接托管和直接發(fā)行股票的方式在美國(guó)紐約證券交易所、納斯達(dá)克證券交易所上市，或通過美國(guó)場(chǎng)外交易市場(chǎng)籌集資金 。”上述文章中提及，“這些半導(dǎo)體企業(yè)在美國(guó)上市，意味著它們不僅要接受美國(guó)明面上的監(jiān)管規(guī)則，也要接受一些‘潛規(guī)則’”。

當(dāng)然，大國(guó)博弈始終是一個(gè)動(dòng)態(tài)的過程，各國(guó)的聯(lián)盟也非鐵板一塊。在ASML的聲明中也表示，在這些規(guī)則最終被確認(rèn)的同時(shí)，ASML將繼續(xù)與當(dāng)局溝通，告知任何擬議規(guī)則的潛在影響，以評(píng)估對(duì)全球半導(dǎo)體供應(yīng)鏈的影響。

中國(guó)能怎么辦？

“如果用于生產(chǎn)7nm及以下制程的浸潤(rùn)式光刻機(jī)被禁運(yùn)，那么其他機(jī)型用于生產(chǎn)28nm／14nm制程的芯片問題都不大。”

上述半導(dǎo)體研發(fā)專家表示。而如果是最差的情況，所有浸潤(rùn)式光刻機(jī)都被禁運(yùn)的話，那么用干式光刻機(jī)生產(chǎn)55nm制程的芯片是沒有問題的，如果要生產(chǎn)40nm制程的芯片，使用雙重曝光技術(shù)，干式光刻機(jī)也可以完成生產(chǎn)。

“糾結(jié)在光刻機(jī)的制程我認(rèn)為沒有意義。”一位在半導(dǎo)體界從業(yè)多年的高管表示，“我們更關(guān)注的是如何用現(xiàn)有的兵器，達(dá)到器件上的最優(yōu)。”也就是說，通過工藝、參數(shù)、架構(gòu)上的創(chuàng)新，達(dá)到更好的良率、性能和功耗。

中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)集成電路設(shè)計(jì)分會(huì)理事長(zhǎng)魏少軍在12月29日“2022中國(guó)（深圳）集成電路峰會(huì)”的演講中也表達(dá)了類似的觀點(diǎn)，中國(guó)產(chǎn)業(yè)原來發(fā)展的重點(diǎn)比較多地放在聚焦很先進(jìn)的科技工藝。

但到了后面，可能需要轉(zhuǎn)向那些對(duì)工藝和EDA工具不強(qiáng)敏感的芯片研發(fā)技術(shù)，同時(shí)更聚焦目標(biāo)導(dǎo)向和問題導(dǎo)向，提升成熟工藝的性能、功耗和尺寸，這是在別人限制中國(guó)的前提下，所做的無奈之舉。

而新器件、新材料、新工藝和芯片架構(gòu)創(chuàng)新將是主要的發(fā)力方向。“之前人們把能做7nm設(shè)計(jì)作為高水平的標(biāo)志，事實(shí)上，能夠用14nm、28nm做出7nm的性能，才是真正的高手。”魏少軍在演講上說。